瑞士Safematic高真空涂层镀膜系统

Safematic GmbH在瑞士的莱茵河谷制造技术领先的碳和溅射镀膜机，该地区以真空和镀膜技术的专业知识而闻名。Safematic研发团队的关键成员在EM和薄膜涂层方面拥有多年经验。安全专家基于这些专业知识和知识，在每个涂层头中设计了关键组件，从而优化了仪器性能，同时最大程度地减少了停机时间并提高了维修便利性。

Safematic CCU-010 涂层设备

·高性能溅射，碳涂层和等离子处理

·专利碳盘管–多达50个碳涂层，无需用户干预

·独特的即插即用溅射和碳涂层模块

·一流的真空性能和快速的抽空时间

·紧凑，可靠且易于维护

·双位置膜厚监测仪，可容纳不同尺寸的样品

·主动冷却的喷头可确保涂层质量并延长运行时间

1.智能模块化设备

CCU-010是一个紧凑，全自动的溅射镀膜机和/或碳镀膜机，使用非常简单。由于独特的插入式设计，该设备可通过简单地改变工艺头就可轻松配置为溅射或汽化。在涂覆之前和/或之后，可以施加等离子体处理。模块化设计可轻松避免金属和碳沉积之间的交叉污染。CCU-010具有静态样品台，包括高度调节和倾斜度。它可以配备一个可选的变速旋转平台或一个旋转球形平台，每个平台都可以容纳不同类型的样品和。对于所有样品台，膜厚监测均作为标准配置。

2.巧妙的真空设计 

CCU-010涂层设备有两种型号。CCU-010LV精细真空基座专为SEM和EDX的常规高质量溅射和碳镀膜而设计，而CCU-010HV高真空系统涵盖了最高级的SEM，TEM和薄膜应用。模块化的设计使以后可以轻松地将其从低真空单元转换为高真空单元。与材料，表面和轮廓有关的彻底设计可大大缩短加工时间。两个附加的标准真空法兰允许连接第三方设备。

3.易于启动和维修

打开包装，连接并开始！即插即用的设计使您可以自行启动设备。您只需要连接电源和过程气体。借助集成的USB服务接口，服务技术人员可以在现场或通过Internet连接远程进行快速错误分析。 模块化设置可以直接替换有缺陷的组件。

溅射模块 SP-010 & SP-011

两个溅射模块均插入CCU-010 LV和CCU-010 HV基本单元，即可使用。每个喷头模块均包含用于高质量溅射镀膜的所有关键组件，包括磁控管，靶材，百叶窗，过程压力调节器和电力电子系统。此外，创新的接口可在几秒钟内将电源，气体供应和信号传输连接到CCU-010基本单元（推入配合）。

SP-010和SP-011溅射模块具有有效的主动冷却功能，连续喷涂时间长达50分钟-非常适合需要较厚膜的应用。 多种溅射材料可用于SEM，FIB和各种薄膜应用。

SP-010溅射头的磁控管旨在优化目标用途。这使其成为用于电子显微镜中细晶粒贵金属膜的理想工具。对于最小的晶粒尺寸涂层，需要涡轮泵送的CCU-010 HV基本单元。

SP-011溅射装置的磁控管设计用于大功率溅射和多种涂料。推荐该头用于要求比标准EM应用更高的涂覆速率和更厚的膜的薄膜应用。SP-011与CCU-010HV结合使用可满足诸如DLC，ITO或铁磁溅射材料涂层等具有挑战性的应用。

CT-010 碳纤维蒸发模块

               这个紧凑的插入式碳蒸发模块为碳涂层树立了新标准。该头插入CCU-010 LV和CCU-010 HV基本单元，即可立即使用。应用包括SEM，TEM和任何其他需要高质量碳膜的过程。CT-010使用具有专利，独特且技术领先的碳纤维绕线系统。这样就可以进行多达50个涂层，而无需更换碳源。一段碳纤维蒸发后，新的一段会自动前进，用过的纤维会掉落到方便的集水盘中。除了易于使用之外，自动绕线系统还允许在一个处理周期内可控地沉积几乎任何厚度的碳膜。容易选择的涂层模式可以执行安全的涂层，从对温度敏感的样品上的薄膜进行温和的蒸发到在FIB应用中的厚层的高功率短时间碳涂层。智能功率控制结合脉冲蒸发，自动百叶窗后面的脱气和薄膜厚度监控功能，可提供准确的层厚度，并避免了任何可能引起表面不均匀的火花。

可选配的GD-010辉光放电系统可以快速安装，以通过空气，氩气或其他专用气体等离子体进行表面处理。例如，可以使碳膜亲水。由于可以按顺序进行碳涂层和辉光放电处理，因此无需“破坏”真空条件和更换工艺头，因此极大地简化了此过程。安装在CT-010中的本机与所有样品台兼容。

HEAD真空储物箱 HS-010

HS-010真空储物箱可让您为CCU-010紧凑型涂层装置保留第二个涂层头，一个额外的行星或旋转工作台，并且始终可以在真空下清洁所有溅射靶材和碳丝。使用CCU-010可用的抽气统，可连接至基本单元的集成抽气管线将储物箱向下抽至真空。另外，也可以轻松地连接一台外部真空泵。 舒适的手动锁定和排气阀允许对储物箱进行独立的泵和排气控制。附加的标准真空室有助于将碳涂层与金属沉积完全分离，从而有效避免交叉污染。

刻蚀装置 ET-010

               对于样品预处理或后处理以及涂层工艺，蚀刻装置可将等离子体施加到基材上。使用该附件，可以选择氩气，额外的蚀刻气体或环境空气作为工艺气体。这样可以在涂覆之前清洁样品，并增加薄膜的附着力。

另外，有可能在涂覆之后通过等离子体处理来改变涂覆样品的表面性能。利用空气等离子体，可以将薄碳层从疏水性转变为亲水性。可调的过程压力范围为2E-1mbar至1mbar，等离子电流为10至50mA。

COATING-L数据软件

              可以使用基于PC的Coating-LAB软件查看包括图形信息在内的过程数据。数据包括压力，电流，电压，涂层速率，涂层厚度和涂层速率作为实时曲线。便捷的软件升级和参数设置完善了此智能工具。

样品台

CCU-010提供了一个直径为80mm的样品台，该样品台插入了高度可调且可倾斜的样品台支架上。可以使用专用的样品台（选件）轻松替换此静态标准台。SS-010载物台带有两个26x 76mm（分别为25 x 75mm）显微镜载玻片或一个52 x 76mm（分别为50 x 75mm）载玻片。由于采用了双位膜厚监测仪，因此两种传感器均可使用石英传感器。旋转工作台RS-010改善了平坦表面上的厚度均匀性，而行星驱动工作台PS-010与样品倾斜相结合，可以均匀地涂覆在裂隙状，波纹状，波纹状或非常球形的样品上。